تأثیر عملیات اسیدی دو مرحلهای بر رفتار سطح و بهبود زیست فعالی آلیاژ نایتینول | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| مجله دانشکده دندانپزشکی مشهد | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| مقاله 9، دوره 40، شماره 3 - شماره پیاپی 98، مهر 1395، صفحه 281-296 اصل مقاله (955.27 K) | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| نوع مقاله: مقاله پژوهشی | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| شناسه دیجیتال (DOI): 10.22038/jmds.2016.7233 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| نویسندگان | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| مردعلی یوسف پور* 1؛ امیر زارعی دوست2 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 1دانشیار گروه مهندسی مواد، دانشکده مهندسی مواد و متالورژی، دانشگاه سمنان، سمنان، ایران | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 2دانشجوی دکتری مهندسی مواد، دانشکده مهندسی مواد و متالورژی، دانشگاه سمنان، سمنان، ایران | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| چکیده | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| مقدمه: ویژگیهای سطح شامل ریختشناسی، ریختشناسی زیر میکرون و شیمی سطح از عوامل مهمی هستند که کیفیت و نحوه پاسخهای بیولوژیکی در محل تماس بافت با ماده کاشتنی را تحت تأثیر قرار داده و این موضوع میتواند بر روی فرآیند التیام استخوان تاثیر گذار واقع شود. مواد و روشها: در این مطالعه آزمایشگاهی، ریختشناسی و زیستسازگاری سطوح آلیاژ حافظهدار نایتینول صیقلکاری مکانیکی شده و اصلاح شده با محلول شیمیایی متشکل از سه نوع اسید (HCl-HF-H3PO4) و سپس عملیات شیمیایی در محلول (HNO3 و HCl) با نسبت حجمی 1:1 و در درجه حرارت محیطبررسی شده است. تعداد 75 نمونه جهت اصلاح شیمیایی سطح، ارزیابیهای بیولوژیکی و زبری سطوح و همچنین 9 نمونه به عنوان شاهد استفاده گردید. به منظور تحلیل و بررسی سطوح، ارزیابیهای میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM)، میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) و زبریسنجی از سطوح آلیاژ نایتینول (NiTi) بهعمل آمد. بهعلاوه، سلول MG-63 بر روی سطوح مختلف آلیاژ نایتینول برای ارزیابی چسبندگی و رشد و تکثیر سلولی کشت گردید. دادهها با استفاده از تستهای آماری t-test و آنالیز واریانس یک طرفه، آنالیز گردید. یافتهها: نتایج بدست آمده نشان میدهد که عملیات اصلاح شیمیایی سطح با محلول اسیدی دو مرحلهای، زبری بالاتری در مقایسه با سطوح اصلاح نشده و عملیات اصلاح شیمیایی سطح با محلول اسیدی تنها با محلول متشکل از (HCl-HF-H3PO4) داشته است. همچنین ارزیابی های کشت سلولی مشخص نمود که سطوح نایتینول اصلاح شده دو مرحلهای، میزان چسبندگی سلولی و رشد و تکثیر قابل ملاحظهای در مقایسه با گروههای اصلاح شده با محلول اسیدی سهتایی و سطوح اصلاح نشده، نشان داده است. نتیجهگیری: روش اصلاح شیمیایی سطح در مورد آلیاژ نایتینول میتواند علاوه بر تغییر ریختشناسی سطح و ایجاد زبریهای در مقیاس زیرمیکرونی باعث تغییر شیمی سطح شود. این موضوع میتواند قابلیت پیوند بافت ایمپلنت را افزایش داده و از تأثیر سمی عنصر نیکل بکاهد. | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| کلیدواژهها | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| آلیاژ نایتینول؛ اصلاح شیمیایی سطح؛ کشت سلولی؛ حکاکی اسیدی | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| اصل مقاله | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
|
مقدمه آلیاژهای نایتینول با درصد اتمی برابر از نیکل و تیتانیم، به عنوان کاشتنی فلزی در ارتوپدی قابل کاربرد هستند؛ این موضوع به دلیل خواص فوق کشسانی و مقاومت به خوردگی آنها است.(3-1) با وجود استفاده کلینیکی رضایتبخش از آلیاژهای نایتینول در بعضی شرایط، حضور نیکل بالا در آلیاژ برای زیستسازگاری آنها بسیار نگران کننده است.(4-1) زیست فعالی در آلیاژهای نایتینول را میتوان با روشهای مختلفی مانند پاشش پلاسمایی، عملیات گرمابی، رسوب دادن به کمک پرتو یونی، روش سل-ژل و عملیات شیمیایی ساده برای آماده سازی سطح مانند استفاده از محلولهای قلیایی (هیدروکسید سدیم) و یا اصلاح شیمیایی سطح با محلول اسیدی و همچنین عملیات اکسیداسیون با محلول پراکسید هیدروژن (H2O2) ایجاد نمود.(18-10و4-1) عملیات قلیایی لایه تیتانات سدیم بر روی سطح تیتانیم تولید همچنین عملیات قلیایی در زیست فعال نمودن سطح زیست مواد دیگر مانند تانتالیم نیز موثر پیشنهاد شده است. همچنین پیشنهاد شده است که اصلاح سطح تیتانیم با اچ اسیدی میتواند تأثیر مثبت بر روی یکپارچگی کاشتنیها در استخوان داشته باشد.(9-7) در یک مطالعه، رفتار استخوان به سطح زیست ماده (که سطح آن ماشین کاری شده و سپس با استفاده از محلول مواد و روش ها روش به کار رفته در این تحقیق از نوع آزمایشگاهی بود. نمونههای آلیاژ نایتینول) 5/50 درصد اتمی نیکل) به صورت دیسکی شکل با قطر mm 5 و ضخامت mm 1 به تعداد 75 نمونه برای اصلاح شیمیایی سطح، ارزیابیهای بیولوژیکی و زبری سطوح و همچنین 9 نمونه به عنوان شاهد انتخاب شدند. سپس سطح نمونهها با استفاد از سنبادههای با شمارههای به ترتیب 280، 320، 500، 600 مورد عملیات صیقلکاری مکانیکی قرار گرفتند.(6) پس از انجام عملیات صیقلکاری مکانیکی برای حذف آلودگیهای سطحی و بدست آوردن یک سطح تمیز برای انجام عملیات اصلاح سطح، نمونهها در یک محفظه اولتراسونیک شستشو داده شدند. در این راستا، نمونههای صیقلکاری مکانیکی شده با 40 درصد حجمی هیدروکسید سدیم (NaOH) و 50 درصد حجمی اسید نیتریک (HNO3) در محفظه التراسونیکی (ATSmall, Iran) که دارای فرکانس 40 هرتز (توان 240 وات) و تایمر مکانیکی (گرمکن 200 وات) به مدت 15 دقیقه بود، شستشو داده شدند. سپس با تخلیه محلول شستشو، مجدداً نمونهها با آب مقطر در محفظه اولتراسونیک شستشو داده شده و نهایتاً در درجه حرارت محیط در الکل اتانول 70 درصد حجمی نگهداری شدند.(7) نمونههای آلیاژ حافظهدار تمیز شده مطابق جدول 1، در محلولهای اسیدی قرار گرفتند و عملیات اصلاح سطح به روش شیمیایی بر روی آنها انجام شد. لازم به ذکر است، انتخاب نوع اسید و شرایط محلول اسیدی به مطالعه قبلی نویسندگان مقاله در زمینه اصلاح سطوح زیست مواد بر میگردد.(8-6) هر کدام از محلولهای اسیدی فوق به حجم 10 سیسی در بشرهای پلاستیکی تهیه شدند و به مدت یک روز نگهداری گردیدند. سپس تعداد 9 عدد نمونه نایتینول برای هر کدام از عملیاتهای اصلاح شیمیایی سطح انتخاب شدند و همچنین 9 نمونه به عنوان شاهد در نظر گرفته شد. سپس نمونههای نایتینول در هر کدام از محلولهای اسیدی، به مدت زمان 10 دقیقه برای عملیات اصلاح شیمیایی سطح و 20 ساعت برای عملیات شیمیایی (به همراه مقدار بسیار کم از نمک سدیم کلراید برای ایجاد ترکیبات کمپلکس و تسریع واکنش خوردگی در سطح آلیاژ حاوی نیکل) در درجه حرارت محیط قرار گرفتند. بعد از انجام عملیات شیمیایی سطح، نمونهها از محلولهای با غلظت مشخص خارج شده و بلافاصله با آب مقطر و بعد با استون در محفظه التراسونیک شستشو داده شدند و بعد با استفاده از خشککن الکتریکی، سطح نمونهها در هوای معمولی خشک شد و سپس نمونهها در دسیکاتور قرار گرفتند تا بررسیهای لازم بر روی سطح آنها، صورت گیرد. بهمنظور بررسی مورفولوژی سطح نمونهها، تحلیل میکروسکوپ الکترونی روبشی (Sem، VegaTescan) با ولتاژ 20 کیلوولت انجام گردید. بهعلاوه، برای بررسی ریختشناسی و زبری سنجی سطح، از میکروسکوپ نیروی اتمی (Auto Probe, Scientific Park Instruments, Usa, Afm) استفاده شد. سلول استخوانساز (MG-63) با استفاده از محیط کشت (DMEM, GIBCO, Scotland) و افزودن 10 درصد سرم جنین گوساله FCS, Seromed, Germany)) به همراه آنتیبیوتیک به میزان 100 پنی سیلین و 100 استرپتومایسین (Sigma, USA) تکثیر گردید تا سلول برای دو نوع ارزیابی بررسی چسبندگی و رشد و تکثیر سلولی آماده شود:(19و9) به منظور ارزیابی میزان رشد و تکثیر سلولی از روش MTT استفاده گردید.(9) روش MTT معمولاً برای بررسی بقاء سلولها به کار میرود که استفاده از نمک زرد رنگ تترازولیوم است که این نمک بوسیله سلولها جذب و سبب تشکیل کریستالهای بنفش رنگ نامحلول فرمازان میگردد. در واقع این روش، براساس فعالیت آنزیم میتوکندریال سلولی استوار است. براین اساس، برای بررسی میزان رشد و تکثیر سلول بر روی سطح نمونههای تیتانیم دو زمان 3 و 6 روز در نظر گرفته شد. به علاوه، از تعداد 104 بر روی سطح نمونههای نایتینول استفاده گردید. لذا، با توجه به تکرار آزمایشها تا 3 مرتبه و زمانهای ذکر شده در بالا تعداد 6 پیلت 96 حفرهای انتخاب شد که در هر کدام از آنها یک دسته از گروههای انتخابی A تا D قرار داشت. برای تهیه محلول MTT با غلظت 5، mg50 از پودر MTT در mg10 از PBS، 15/0 مولار حل شد و هنگام استفاده در رنگ آمیزی 10 برابر با PBS رقیق گردید تا محلول 5/0 MTTبه دست آید.
جدول 1 : شرایط عملیات اصلاح شیمیایی سطح بر روی گروههای آلیاژ حافظهدار
لازم به ذکر است که پس از تهیه PBS، محلول اتوکلاو گردید. پس از انکوباسیون سلولهای MG-63 بر روی سطوح در فواصل زمانی 3 و 6 روز، پلیتهایی که در دمای 37 درجه سانتیگراد و 5 درصد دی اکسید کربن انکوبه شده بودند با محلول 5/0 MTT رنگ آمیزی شدند. پس از 3 تا 5 ساعت انکوباسیون در 37 درجه سانتیگراد، مایع رویی سلولها برداشته شد و به جای آن 200 میکرولیتر محلول ایزوپروپانال (Merck, Germany) به حفرههای مربوطه اضافه شد. پلیتهای مربوطه به مدت 10 الی 15 دقیقه روی شیکر قرار گرفت. سپس پلیتهای مربوط توسط یک میکروتیتر ریدر در570 نانومتر قرائت شد.(8) برای آزمون چسبندگی سلولی، روش تریپان بلو استفاده شد. در این روش، غشاء سلولهای زنده اجازه ورود رنگهای غیر الکترولیت را به درون سلول نمیدهند، اما سلولهای مرده به خوبی رنگ میگیرند. با افزودن محلول تریپان بلو به PBS 15/0 مولار و سپس قرار دادن بر روی سطوح کشت داده شده درون چاهکهای پلیت، سلولهای مرده رنگ گرفته و از سلولهای زنده (بیرنگ) قابل تمایز هستند. سپس با کمک یک هیستومتر (لام نئوبار) تعداد سلولهای رنگ گرفته (مرده) و تعداد سلولهای زنده ( بدون رنگ) تعیین میشوند.(8) به منظور آزمون چسبندگی سلول، تعداد 6000 سلول بر روی سطح هر نمونه قرار گرفت (به منظور رسیدن به مقدار مورد نظر برای کشت ظرف کشت در انکوباتور قرار داده شد) و به مدت 16 ساعت بر روی سطح نمونههای نایتینول کشت داده شد. برای تحلیل نتایج حاصل از زبری سطح و ارزیابیهای زیستی از آزمون آنالیز واریانس یک طرفه و آزمون توکی استفاده شد. سطح معنیداری در آزمونها 05/0 در نظر گرفته شد. یافته ها در شکل 1، تصویر میکروسکوپ الکترونی از سطح نایتینول صیقلکاری مکانیکی شده، آمده است. با بررسی این شکل، مشاهده میشود که سطح دارای خطوط شیاردار و موازی است. (شکل a-1). وقتیکه، سطح آلیاژ حافظهدار صیقلکاری مکانیکی شده، در محلول 80 درصد اسیدکلریدریک، 10 درصد اسیدفلوئوریدریک، 10 درصد اسیدفسفریک به مدت 10 دقیقه و در درجه حرارت محیط قرار میگیرد، این محلول اسیدی تأثیر چندانی در ایجاد و بروز تخلخلهای سطحی بر روی آلیاژ ندارد (شکل b-1). همچنین در تصویر، شیارهایی ناشی از صیقلکاری مکانیکی و کندگیهای سطحی ناشی از خورندگی اسید به چشم میخورد. لذا، این محلول اسیدی با شرایط ذکر شده در بالا، قابلیت ایجاد حفرات با ابعاد میکرون را بر روی سطح نمیتواند داشته باشد. شکل (c-1)، سطح آلیاژ حافظهدار را پس از قرار گرفتن در محلول مربوط به گروه C نشان میدهد. همچنین حفرات ایجاد شده، تقریباً به شکل منظم بوده و از شکل هندسی کروی (تخلخلهای کروی شکل) پیروی میکنند. نتایج مربوط به قرارگرفتن نایتینول در محلول اسیدی سهتائی به همراه عامل ایجاد کننده گروههای زیستی بر روی سطح (کلسیم فلوراید)، در شکل (d-1) آمده است که حفرات سطحی با اندازه کوچکتر نسبت به عملیات شیمیایی با اسیدنیتریک را نشان میدهد. بهعلاوه، در بعضی از نواحی، سطح تحت تأثیر محلول اسیدی قرار نگرفته است. در نتیجه، بافت سطحی مرجع ایجاد نشده است. شکل (e-1)، عملیات اصلاح سطح آلیاژ نایتینول را تحت شرایط 80 درصد اسیدکلریدریک، 10 درصد اسیدفلوئوریدریک، 10 درصد اسیدفسفریک، 7/1 گرم کلسیم فلوراید (10 دقیقه، دمای محیط) و سپس عملیات شیمیایی با محلول متشکل از اسیدنیتریک 56 درصد، اسیدکلریدریک 37 درصد به نسبت حجمی 1:1 (20 ساعت، در دمای محیط)، نشان می دهد. با بررسی این شکل وجود چین خوردگی و از بین رفتن لایههای سطحی آلیاژ نایتینول که ناشی از قابلیت خورندگی بالای محلول اسیدی است، مشخص است. همچنین انرژی سطح، تحت این شرایط بسیار بالا است؛ به طوری که ریزحفرههای ایجاد شده تحت اثر محلول اسیدی سهتائی با عملیات سطحی بعدی از بین رفته و سطح صاف شده است.
شکل 1 : تصویر میکروسکوپ الکترونی روبشی از سطح نایتینول صیقلکاری مکانیکی شده و اصلاح شده با a): عملیات A، b) عملیات B، c): عملیات C، d) عملیات D،e ) عملیات E.
به منظور مطالعه بیشتر، علاوه بر میکروسکوپ الکترونی روبشی با استفاده از آنالیز میکروسکوپ نیروی اتمی AFM[1] مورفولوژی سطح مورد ارزیابی قرار گرفت و در این حالت R.M.S و Ra که نشان دهنده زبری سطح هستند با استفاده از این آنالیز محاسبه شدند. شکل
شکل 2 : تصویر میکروسکوپ نیروی اتمی از سطح نایتینول صیقلکاری شده و اصلاح شده با a): عملیات A، b) عملیات B، c): عملیات C، d) عملیات D، e) عملیات E.
نمودار 3-(a-b)، مقادیر میانگین زبری سطح (Ra) و میزان زبری سطح (R.M.S) از سطوح آلیاژ حافظهدار صیقلکاری مکانیکی شده و اصلاح شیمیایی شده را نشان میدهد. در این راستا، بالاترین زبری سطح مربوط به عملیات سطحی مربوط به اجرای عملیات E است. همانطور که از تصاویر میکروسکوپ نیروی اتمی مشخص است، مورفولوژی سطح آلیاژ حافظهدار نایتینول با اجرای عملیات E به شکل به هم پیچیده بوده است. بهعلاوه، ارتفاع پستی و بلندیهای سطح نیز در این حالت بالاتر از سایر گروههای دیگر (A-D) میباشد. گروه C که دارای تخلخلهای منظم بوده (شکل 2-c) و از اسیدنیتریک برای عملیات شیمیایی بعدی استفاده گردیده، زبری سطح کمتری نسبت به گروه E داشته است. اما، زبری سطح گروه C پس از گروه E بالاتر از بقیه گروههای دیگر عملیات سطحی بوده است. سطح آلیاژ نایتینول صیقلکاری شده دارای حداقل زبری بود. این امر برای عملیات اصلاح سطح با گروه B نیز صادق است. نتایج حاصل از رشد و تکثیر سلول در روز سوم (نمودار 4-a) نشان میدهد، دو نمونهی E و D تفاوت معنیداری با گروه نیکل- تیتانیم کنترل داشتهاند (3n= و 05/0P<). اما، غیر از دو گروه ذکر شده، تفاوت معنیداری بین گروههای دیگر مشاهده نشده است. اما، پس از شش روز کشت، میزان رشد و تکثیر سلولی بر روی سطوح آلیاژ حافظهدار نایتینول اصلاح شیمیایی شده اختلاف قابل ملاحظهای را با سطح اصلاح نشده نشان داد.
نمودار 3 : مقادیر زبری سطح (a): متوسط زبری سطح (Ra) و (b) میزان زبری سطح (R.M.S) از سطوح نایتینول صیقلکاری مکانیکی شده و اصلاح شیمیایی شده؛ )همه دادهها بر حسب mean ± Standard Error (n = 3) گزارش شدهاند(.
ارزیابیهای آماری نشان داد، تفاوت های معنیدار بسیار بالایی بین گروههای (C، D وE) با سطح نیکل- تیتانیم اصلاح نشده (A) وجود دارد (3n= ، 001/0P<). همچنین بین گروه B و گروههای (C، D وE)، نیز این تفاوت قابل ملاحظه است اما، سطوح نیکل-تیتانیم اصلاح شده با محلول اسیدی 80 درصد اسید کلریدریک، 10 درصد اسیدفلوئوریدریک، 10 درصد اسیدفسفریک و سپس عملیات شیمیایی با محلول ترکیبی از اسیدکلریدریک و اسیدنیتریک (E)، به همراه محلول80 درصد اسیدکلریدریک، 10 درصد اسیدفلوئوریدریک، 10 درصد اسیدفسفریک، 7/1 گرم کلسیم فلوراید (D)، علاوه بر تفاوتهای معنیدار با گروه کنترل، تفاوتهای معنیداری نیز با سطوح نیکل-تیتانیم اصلاح شیمیایی شده، داشتند. مطالعه دیاگرام ستونی نشان میدهد، گروه کنترل در روز ششم نسبت به روز سوم کاهش رشد و تکثیر سلولی را بر روی سطح خود داشته است و سلولهای استخوان ساز نتوانستهاند بر روی سطح رشد و تکثیر یابند. این امر در حالی است که تمام سطوح اصلاح شده افزایش رشد و تکثیر را با افزایش زمان نشان میدهند. غیر از دو نمونهی E و D که در روز سوم و ششم بالاترین میزان رشد و تکثیر را داشتند، نمونه C در روز ششم نسبت به روز سوم افزایش بیشتری در رشد و تکثیر سلولی بر روی سطح خود نشان داد. بهعلاوه، برای دو متغیر میزان زبری سطح Ra و یا RMS و فعالیت حیاتی، آنالیز واریانس دو عاملی انجام شد و مقادیر توصیفی و تحلیلی آن به صورت جدول 2 و جدول 3 ارائه شده است.
نمودار 4 : فعالیت حیاتی رشد و تکثیر سلولهای استخوانساز بر روی سطوح نیکل- تیتانیم اصلاح شده و گروه کنترل پس از a): سه روز کشت و b): شش روز کشت.
جدول 2 : میانگین و انحراف معیار فعالیت حیاتی و با متغیر میزان زبری سطح (Ra و یا RMS) بر حسب مدت زمان و گروه
نتایج چسبندگی سلولی (نمودار 5)، نشان میدهد، دو نمونه (C) و (E) بالاترین میزان چسبندگی سلول را به سطح خود داشتهاند. اما، نمونههایی که بالاترین میزان زبری را داشتهاند (نمونههایی که با محلول 80 درصد اسیدکلریدریک، 10 درصد اسید فلوئوریدریک، 10 درصد اسید فسفریک اصلاح شدهاند و سپس از اسیدنیتریک به عنوان عملیات بعدی استفاده شدهاند)، نسبت به سایر نمونهها میزان چسبندگی بالاتری را نشان دادهاند. در نمونه (E) که بیشترین زبری را در مقیاس نانو داشت، این میزان حداکثر و برای نمونهی (C) نیز این مقدار بالا بود. ملاحظات آماری تفاوت قابل توجهی را بین نمونه (E) و گروه کنترل نشان داد (3n= و 001/0P<). تفاوت معنیداری نیز بین نمونه (C) و نمونه (B) و همچنین نمونه (E) و نمونه (A) وجود داشت (3n= و 001/0P<). همچنین ملاحظات آماری تفاوت قابل توجهی را بین نمونه (C) و گروه (B) نشان داد ( 3n= و01/0P<).
جدول 3 : مقادیر میانگین و انحراف استاندارد عملیات های سطحی برای چسبندگی سلول
نمودار 5 : تعداد سلولهای استخوان ساز چسبیده بر روی سطوح نیکل- تیتانیم اصلاح شده و گروه کنترل پس از 16 ساعت کشت.
بحث این موضوع نشان میدهد که تأثیر عملیات شیمیایی بعدی با محلول اسیدی دوتائی که متشکل از اسیدکلریدریک و اسیدنیتریک (با حضور نمک NaCl) بر روی مورفولوژی و ریختشناسی سطح تأثیرگذار خواهد بود. دلیل این موضوع را میتوان تنها حذف خطوط ناشی از اجرا صیقلکاری مکانیکی بر روی سطح آلیاژ و عدم تغییرات ریختشناسی سطح آلیاژ توسط این محلول اسیدی (گروه B) دانست. استفاده از عملیات اصلاح شیمیایی برای آلیاژ حافظه دار میتواند ریختشناسی سطح را تغییر دهد به طوری که، فرآیند اصلاح سطح با محلول اسیدی سهتایی و سپس به کار بردن عملیات شیمیایی با اسیدنیتریک بر روی سطح، ایجاد فرورفتگی و برآمدگی در مقیاس میکرون نمود (شکل 1-c). بنابراین، میتوان نقش محلول اسیدی را به عنوان یک پیش عملیات برای اصلاح سطح لازم دانست زیرا، این رفتار میتواند در چسبندگی و رشد و تکثیر استخوان بر روی سطح موثر تلقی شود. همینطور بایستی به تشکیل ترکیبات کمپلکس به ازای افزودن سدیم کلراید به محلول اسیدی اشاره نمود. در این شرایط، بافت سطح دارای حداکثر میزان فرورفتگی با شکلهای یکنواخت است. قرار گرفتن نایتینول در محلول اسیدی سهتائی به همراه عامل ایجاد کننده گروههای عاملی زیستی بر روی سطح که در شکل (1-d) آمده است، نشان میدهد، ترکیب عوامل زبر کننده سطح (محلول اسیدی سهتائی) همراه با فلوراید کلسیم، شرایط خوردگی سطح و پتانسیل خوردگی محلول را تحت تأثیر قرار داده است. همچنین حفرات با اندازه کوچکتری نسبت به عملیات شیمیایی با اسیدنیتریک (شکل (1-c)) ایجاد شده است. در نتیجه، از نقطه نظر مورفولوژی سطح آلیاژ نایتینول، تصاویر مربوط به میکروسکوپ الکترونی روبشی شکل (1-c-d) حفراتی با مقیاس میکرون بر روی سطح را، تأئید مینمایند. این حفرات سطحی تقریباً مشابه به یکدیگر و به شکل نیم کرههای کوچک میباشند، اما تحت تأثیر نوع محلول اسیدی و اعمال عملیات شیمیایی بعدی بر روی سطح، اندازه این نیم کرهها متفاوت بوده و مورفولوژی نیز به شدت تغییر خواهد نمود. بهعلاوه، تصویر میکروسکوپ نیروی اتمی مربوط به این عملیات (شکل (2-d)) تمرکز خوردگی شدیدی در نواحی داخل حفرههای سطحی را نشان میدهد؛ بهطوریکه حفرات بسیار ریزی در کمتر از مقیاس میکرونی بر روی سطح ایجاد شده است. لازم به ذکر است که وجود فلوراید کلسیم، پتانسیل خوردگی محلول اسیدی سهتائی را تحت تأثیر قرار داده است. مقایسه شکل (1-e) با تصاویر 1-(b-d)، وجود چین خوردگی و از بین رفتن لایههای سطحی آلیاژ نایتینول که ناشی از قابلیت خورندگی بالای محلول اسیدی است را نشان میدهد. همچنین انرژی سطح تحت این شرایط بسیار بالا است(7)؛ به طوری که ریز حفرههای ایجاد شده تحت اثر محلول اسیدی سهتائی با عملیات سطحی بعدی از بین رفته و سطح صاف شده است. با افزایش زمان قرار گرفتن سطح آلیاژ در محلول اسیدی ذکر شده، انتظار می رود که خوردگی از حالت متمرکز خود خارج گردیده و سطح، تحت خوردگی شدید واقع میشود. در نتیجه، بافت سطحی مرجع ایجاد نمیشود.(8و7) همچنین بالاترین مقادیر زبری سطح تصاویر 3-(a-b) مربوط به عملیات سطحی E بود. این موضوع نشان میدهد که تأثیر عملیات شیمیایی بعدی با محلول اسیدی دوتائی که متشکل از اسیدکلریدریک و اسیدنیتریک (با حضور نمک NaCl) بود. بر روی مورفولوژی و مورفولوژی سطح، تأثیرگذار است. زبری سطح در مقیاس میکرون تأثیر عمدهای بر فعالیت سلولی و خاصیت زیست مکانیکی در نتیجه ایجاد قفلهای مکانیکی بین بافت و مادهکاشتنی دارد. دلیل این امر را میتوان در رشد و تکثیر سلولها و بافتهای استخوانی درون حفرههای با مقیاس میکرون سطح ماده کاشتنی جستجو نمود. لذا، با بررسی نتایج مربوط به چسبندگی و رشد و تکثیر سلولی، تعیین شد که نمونه E که دارای بالاترین زبری سطح (R.M.S) بود، از چسبندگی و رشد و تکثیر سلولی قابل توجهی بر روی خود برخوردار بوده است. گروه B نیز زبری سطح تقریباً مشابهی را با گروه کنترل نشان داد. دلیل این امر را میتوان تنها حذف خطوط ناشی از اجرای صیقلکاری مکانیکی بر روی سطح آلیاژ و عدم تغییرات ریختشناسی سطح آلیاژ توسط این محلول اسیدی (عملیات سطحی B) دانست. به دلیل تأثیر قابل ملاحظه اسیدنیتریک در تغییر ریختشناسی سطح و بهمنظور تحلیل برهمکنش این اسیدبا سطح نمونه، واکنشهای شیمیایی زیر بیان شدهاند. بطوریکه، قرار گرفتن آلیاژ حافظهدار در محلول HNO3 سطح آنرا دچار خوردگی انتخابی خواهد نمود. لذا، ابتدا نمونههای فعال نیکل بر روی سطح ماده حل شده و در نهایت اکسید تیتانیم بر طبق واکنش زیر بر روی سطح ایجاد میشود. 3Ni+8HNO3=3Ni(NO3)2+2NO +H2O
3Ti+4HNO3+H2O=3TiO2.H2O+4NO
بنابراین، زمانیکه آلیاژ نایتینول با محلول آبدار اصلاح میشود، لایه اکسیدی اساساً از نوع TiO2 و یا TiO بر روی سطح تشکیل خواهد شد. بهعلاوه، TiO2 زیست سازگاری بهتری نسبت به Ti دارد، و وجود یک لایه سطحی از TiO2 میتواند از آزاد شدن بالقوه نیکل زیرلایه NiTi جلوگیری نماید.(2) مطالعات دیگری که از روش هیدروترمال و عملیات قلیایی– حرارتی جهت افزایش زیستفعالی سطح آلیاژ نایتینول استفاده شده نیز مبین وجود لایهای از اکسید تیتانیم در سطح است.(10و3) سطح آلیاژ نایتینول محلول اسیدی سهتائی 80 درصد اسیدکلریدریک، 10 درصد اسیدفلوئوریدریک، 10 درصد اسیدفسفریک (10 دقیقه، دمای محیط) به تنهایی تاًثیر چندانی در ایجاد تخلخلهای با مقیاس میکرون نداشت (شکل 1-b)، اما محلول اسیدی سهتائی میتواند سبب شکستن لایه اکسیدی و تشکیل تیتانیا بر روی سطح بود که این موضوع شرایط را برای اعمال عملیات شیمیایی بعدی و اصلاح سطح آلیاژ مذکور فراهم نماید. زبری سطح میتواند نقش مهمی در تشکیل لایه شبه آپاتیت بر روی سطح زیست ماده ایفا نماید.(6) از طرفی بایستی به گستردگی حفرات بر روی سطح نایتینول ناشی از تغییر شرایط محلول اسیدی اشاره نمود. در نمونه D که بیشترین گستردگی را از نظر حفرههای سطحی داشت (5/0 تا 7 میکرون)، رشد و تکثیر سلولی قابل ملاحظهای مشاهده شد. این امر در حالی است که تحقیقات دیگر مربوط به مورفولوژی، سطحی با اندازههای حفرات 6 تا 10 میکرون و یا 5/0 تا 2 میکرون را به عنوان سطحی ایده آل از رشد و تکثیر سلول در نظر گرفته بودهاند.(20و19) قابلیت چسبندگی سلول به سطح برای گروههایی از نایتینول که با اسیدنیتریک اصلاح شده بودند، مقدار بیشتری را نشان میداد که میتوان علت آن را به افزایش بیشتر در زبری سطح ناشی از درصد این اسید دانست.(21) لازم به ذکر است که نقش ریختشناسی حفرههای سطح نیز از اهمیت خاصی در روند رشد و تکثیر سلول برخوردار است.(19) در تمام حالتهای فوق سطح آلیاژ نایتینول بدون عملیات اصلاح سطحی (گروه Control) از نظر رشد و تکثیر و چسبندگی سلول در مقایسه با سطوح اصلاح شده بسیار ضعیف عمل نموده بود. همچنین بافت رشتهای (کپسول فیبروزهای) که از تماس مستقیم استخوان به کاشتنی جلوگیری مینماید، در اینحالت تشکیل شده بود. بهطور کلی، در حدود دو دهه پیش مطالعاتی برای گسترش سطوح تیتانیمی غیرپوششی آغاز گردید. میکروتوپوگرافی سطح میتواند بر تعداد و مورفولوژی پاهای کاذب چسبنده سلول و جهتگیری سلولها (استئوبلاستها) تأثیر گذاشته و مهاجرت سلولها بهداخل حفرههای موجود در سطح ماده کاشتنی را هدایت کرده و در نتیجه رشد استخوان را افزایش دهد. این موضوع، با انرژی سطحی ایمپلنت و به عبارت دیگر میزان آبدوستی سطح میتواند ارتباط یابد.(7و6) لذا، ترشوندگی سطح همچنین در جهت چسبندگی بالاتر پروتئینها پیشنهاد شده است. چسبندگی پروتئینها، مهاجرت سلولهای استخوان ساز در طول سطح را آماده میکند. بنابراین، در مورد نمونه E که بیشترین زبری سطح را دارا بود، چسبندگی و رشد و تکثیر سلولی بالاتری را میتوان در مقایسه با نمونههای دیگر انتظار داشت. از مطالب بالا می توان گزارش کرد که زبری و شیمی سطح نقش فوق العاده مهمی را در رفتار سلول بر روی سطح ایمپلنت ایفا مینماید.(21-20و9) بهعلاوه، گزارش شده است که جذب فیبرونکتین روی سطوح خشن کمتر از سطوح صاف است. فیبرونکتین یک گلیکوپروتئین است که به طور سریعی به سطوح سخت چسبیده و در نتیجه باعث چسبیدن سلولهای دیگر میشود.(23) همچنین در تحقیقی دیگر نشان داده شد که سطوح اصلاح شده با عملیات اسیدی نسبت به عملیات قلیایی دارای تأثیر بارزتری بر نحوه رشد آپاتیت بوده و استوکیومتری نزدیکتری از نسبت کلسیم به فسفات (55/1) در پوشش شبه استخوانی آپاتیت روی سطوح خود ایجاد مینماید.(6) ایمپلنت تیتانیم در مقابل یونهای فلوراید بسیار فعال بوده و تترا فلوئورید تیتانیم را تشکیل میدهد. سطح تولید شده دارای توپوگرافی با زبری میکرون، است. به هر حال عملیات اسیدی نظیر اسید فلوئوریدریک میتوانند جهت ایجاد توپوگرافیها در مقیاس نانو، که به صورت معمول به عنوان ساختارهایی که حداقل یکی از ابعادشان در محدوده یک تا صد نانومتر است، استفاده شوند.(7) این عملیات شیمیایی، علاوه بر ایجاد یک سطح زبر منجر به حضور یون فلوراید در سطح تیتانیم می شود که تلفیق آنها به منظور همبندی استخوان کاشتنی تیتانیم با بافت استخوانی مساعد است.(8و7) این موضوع برای آلیاژ نایتینول مشاهده نشد؛ زیرا عنصر نیکل نسبت به یونهای فلوئور مقاومت به خوردگی خوبی دارد. اما، استفاده از عملیات شیمیایی با اسیدنیتریک میتواند آلیاژ نایتینول را از لحاظ مورفولوژی سطح و همچنین تغییر لایه اکسیدی اصلاح نماید.(2) اصلاح شیمیایی سطح، تفکیک سلولهای استخوان ساز را در مقایسه با نمونههای اصلاح نشده بالا میبرد. همچنین این فرآیند قادر است پتانسیلی در جهت بهبود بالاتر تکیهگاه کاشتنی در استخوان توسط ارائه سطح کاشتنی زیست فعال، ارائه دهد. نتیجهگیری سطح آلیاژ نایتینول تغییرات قابل توجهی را زمانیکه تحت محلول اسیدی متشکل از اسیدهای سهتائی تشکر و قدردانی نویسندگان مقاله بر خود لازم میدانند از معاونت پژوهشی دانشگاه سمنان، دانشکده مهندسی مواد و متالورژی دانشگاه سمنان، گروه پژوهشی بایونانو مواد زیست فعال دانشگاه سمنان و پژوهشگاه مواد و انرژی کرج به دلیل حمایت از مقاله حاضر تشکر نمایند. | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| مراجع | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
|
آمار تعداد مشاهده مقاله: 2,864 تعداد دریافت فایل اصل مقاله: 1,197 |
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
